基于MBCFET,三星计划2025年量产2nm工艺
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有消息称,根据三星的计划,3n工艺会放弃FinFET晶体管技术,转向GAA环绕栅极,3nm工艺上分为两个版本,其中3GAE(低功耗版)将在2022年年初投入量产,3GAP(高性能版)则会在2023年年初批量生产。
目前具体工艺指标还没有公布,仅知采用GAA晶体管,跟3nm一样基于MBCFET(多桥沟道FET)技术,这是一种纳米片晶体管,可以垂直堆叠,而且兼容现在的CMOS工艺,共享设备与制造方法,降低了新技术的升级成本。
三星的2nm工艺是一大进步,创新亮点不少,而且跟现在已有的2nm技术不同——此前IBM全球首发了2nm芯片,指甲盖大小的面积就可以集成500亿晶体管,相比7nm工艺提升了45%的性能或者减少75%的功耗,预计2024年量产。
三星也参与了IBM的2nm技术,然而自己量产的2nm技术跟IBM的2nm并不一样,后者需要新的生产方法,三星还会依赖自家研发的2nm技术。
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